3조5000억원 투자…축구장 8개 면적 최대 규모 시설
최태원 회장 "M16은 큰 계획의 완성, 과감한 결단 미래 꿈꾸게 해"

M16 시설 전경/SK하이닉스 제공

SK하이닉스가 본격적으로 D램 반도체 생산에 극자외선(EUV) 노광 장비 시대를 열고 메모리 반도체 미세공정화를 앞당긴다.

SK하이닉스는 1일 경기도 이천 본사에서 M16 준공식을 개최했다고 밝혔다. 'We Do Technology  행복을 열다'라는 주제로 열린 이날 준공식은 코로나 방역 수칙을 준수하기 위해 그룹 내 행사로 간소하게 진행됐다.

준공식에는 최태원 SK그룹 회장, 최재원 수석부회장, 조대식 SK수펙스추구협의회 의장, 박정호 SK하이닉스 부회장, 장동현 SK㈜ 사장, 이석희 SK하이닉스 CEO, 하영구 SK하이닉스 선임사외이사 등 16명이 참석했다.
 
최태원 회장은 "반도체 경기가 하락세를 그리던 2년 전 우리가 M16을 짓는다고 했을 때 우려의 목소리가 컸다"며 "하지만 이제 반도체 업사이클 얘기가 나오고 있는 만큼 어려운 시기에 내린 과감한 결단이 더 큰 미래를 꿈꿀 수 있게 해줬다"고 소회를 밝혔다.

최 회장은 "M16은 그동안 회사가 그려온 큰 계획의 완성이자 앞으로 용인 클러스터로 이어지는 출발점으로서 중요한 상징으로 남을 것"이라고 의미를 전했다.

M16 공장은 SK하이닉스 최초로 EUV 노광 장비가 도입된다.

EUV 공정은 반도체 포토 공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 것으로 기존 불화아르곤(ArF)의 광원보다 파장의 길이가 짧아(10분의 1 미만) 반도체에 미세 회로 패턴을 구현할 때 유리하고 성능과 생산성도 높일 수 있다.

SK하이닉스는 2018년 11월 M16 착공 이후 총 3조5000억원, 공사 인력 연인원 334만명을 투입해 25개월 만에 준공했다.

D램 제품을 주로 생산하게 될 M16은 축구장 8개에 해당하는 5만 7000㎡의 건축면적에 길이 336m, 폭 163m, 높이는 아파트 37층에 달하는 105m로 조성됐다. SK하이닉스가 국내외에 보유한 생산 시설 중 최대 규모다.

특히 M16에는 SK하이닉스 최초로 EUV 노광 장비가 도입된다. SK하이닉스는 최첨단 인프라를 기반으로 이 팹을 차세대 성장동력으로 키워낸다는 계획이다.

SK하이닉스는 EUV 장비를 활용해 올해 하반기부터 4세대 10나노급(1a) D램 제품을 생산할 예정이다. 회사 측은 향후 이 장비의 활용도를 더 높이면 메모리반도체 미세공정 기술 리더십도 더욱 강화될 것으로 기대했다.

M16 준공은 SK하이닉스가 2015년 이천 M14 준공식에서 밝힌 '미래비전'의 조기 달성이라는 점에서도 주목된다.

당시 SK하이닉스는 2014년부터 10년 내 M14를 포함해 국내에 3개의 신규 팹을 구축하겠다는 계획을 발표한 바 있다. 이후 2018년 청주 M15에 이어 이번에 M16을 준공해 미래비전을 3년 앞당겨 완성했다.

이석희 CEO는 "M16은 EUV 전용 공간, 첨단 공해 저감 시설 등 최첨단 인프라가 집결된 복합 제조시설"이라며 "향후 경제적 가치 창출은 물론, ESG 경영에도 기여하는 한 단계 높은 차원의 생산기지가 될 것"이라고 말했다.

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